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【2h】

Evaluation of Thermal Versus Plasma-Assisted ALD Al2O3 as Passivation for InAlN/AlN/GaN HEMTs

机译：InAlN / AlN / GaN HEMT的热对等离子体辅助ALD Al2O3钝化的评估

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Malmros, Anna; Gamarra, P.; di Forte-Poisson, M. A.; Hjelmgren, Hans; Lacam, C.; Thorsell, Mattias; Tordjman, M.; Aubry, R.; Rorsman, Niklas;
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年度 2015
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